紹介
特殊ガスは、純度、ガス組成、品質の厳密な管理が求められる製造プロセスで使用されます。ベトナムにおいて、メッサーは希ガスを製造する唯一の企業として、高度な技術基準が求められる産業分野の特殊なガスニーズに応えています。
用途に応じて、ガスの種類、純度、混合ガスの組成、供給方法を検討し、実際の使用条件に適したソリューションを提案します。
お問い合わせ主な製品
エレクトロニクス向けガス
NH₃（アンモニア）は、無色で特有の刺激臭を持ち、加圧により液化しやすい特殊ガスです。高度な技術を要する電子機器、半導体、LED、太陽電池などの製造分野では材料の成膜に必要な窒素源として使用されます。
窒素を含む材料を形成する工程では、ガスの品質と不純物の管理が、安定した生産を実現するために重要です。
ガスに関するご相談
窒素を含む材料を形成する工程では、ガスの品質と不純物の管理が、安定した生産を実現するために重要です。
N₂O（亜酸化窒素）は、無色で酸化性を持つ特殊ガスで、薄膜形成プロセスに使用されます。
半導体製造では、シラン（SiH₄）などのシリコンを含む原料ガスと組み合わせ、ウエハ上に酸化シリコン膜を形成するために使用されます。
高い純度と安定した品質が求められる医療、電子機器、半導体などの分野で重要な役割を果たすガスです。
ガスに関するご相談
半導体製造では、シラン（SiH₄）などのシリコンを含む原料ガスと組み合わせ、ウエハ上に酸化シリコン膜を形成するために使用されます。
高い純度と安定した品質が求められる医療、電子機器、半導体などの分野で重要な役割を果たすガスです。
電子・半導体製造プロセス向けに、三フッ化窒素（NF₃）、塩素（Cl₂）、四フッ化炭素（CF₄）、六フッ化エタン（C₂F₆）などのエレクトロニクスガスも提供しています。
ガスに関するご相談
高純度ガス
高純度ガスには、酸素（6.0）、窒素（N₂ 6.0）、アルゴン（Ar 6.0）、水素（5.0）があり、ガスの品質や不純物の管理が製造プロセスの安定性や製品品質に直接影響する、高度な技術要件が求められる産業分野で使用されます。
これらのガスは、エレクトロニクス、半導体、太陽電池、機器分析、研究・試験施設、精密工業プロセスなどの用途に適しています。具体的な仕様、純度グレード、供給方法については、製品ごとの仕様および実際の使用条件に応じて確認いたします。
希ガス
ヘリウムは、化学的に不活性で軽く、沸点が非常に低い希ガスです。その特性から、安定した雰囲気や極低温環境が求められる用途に適しています。医療・研究分野では、MRIやNMRなどの磁気共鳴装置に搭載された超伝導磁石の冷却に使用され、装置に必要な動作条件の維持に貢献します。
産業分野や先端技術分野では、漏れ検査、システムの気密試験、材料研究、深冷処理、他のガスの液化補助などに使用されます。ヘリウムは希少価値の高いガスであるため、具体的な用途、技術要件、運転条件に応じて、適切な使用方法と供給方法を検討する必要があります。
ガスに関するご相談
産業分野や先端技術分野では、漏れ検査、システムの気密試験、材料研究、深冷処理、他のガスの液化補助などに使用されます。ヘリウムは希少価値の高いガスであるため、具体的な用途、技術要件、運転条件に応じて、適切な使用方法と供給方法を検討する必要があります。
クリプトンは、先端技術、光学、照明、レーザー、研究、特殊材料などの分野で使用される希ガスです。一部のレーザー用途では、専用の混合ガスの成分として使用されます。
光学用途や各種技術機器で使用する場合は、要求される純度とガス供給の安定性を確保することが重要です。
ガスに関するご相談
光学用途や各種技術機器で使用する場合は、要求される純度とガス供給の安定性を確保することが重要です。
キセノンは、航空宇宙、医療、光学、照明、レーザー、研究・分析など、さまざまな先端技術分野で使用される希ガスです。用途によっては、運転条件に応じて設計された混合ガスの成分としても使用されます。
高度な技術要件が求められる分野でキセノンを使用する場合、用途に適した純度グレード、容器仕様、ガス供給方法を選定することが重要です。
ガスに関するご相談
高度な技術要件が求められる分野でキセノンを使用する場合、用途に適した純度グレード、容器仕様、ガス供給方法を選定することが重要です。
ネオンは、光学、レーザー、技術照明、研究、先端技術などの特殊な用途で使用される希ガスです。レーザーシステムや専用機器では、混合ガスの成分として、または個別の技術仕様に応じて使用されます。
用途が専門的であるため、ネオンの選定にあたっては、使用する機器、運転条件、お客様が求める技術基準に適合させることが重要です。
ガスに関するご相談
用途が専門的であるため、ネオンの選定にあたっては、使用する機器、運転条件、お客様が求める技術基準に適合させることが重要です。
混合ガス・レーザーガス
レーザー用混合ガスは、産業用途をはじめ、研究・分析、医療技術、高度な技術分野など、さまざまな専用レーザーシステムに使用されます。ガスの組成は、レーザーの種類や装置、出力、加工対象の材料、用途ごとの技術要件に応じて選定する必要があります。
レーザーシステムによっては、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノンなどの希ガスを単独で使用するほか、用途に応じて専用の混合ガスとして使用する場合もあります。ガスの組成は、装置の安定性や性能、運転品質に影響するため、それぞれのシステムに適した仕様を選定することが重要です。
ガスに関するご相談
レーザーシステムによっては、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノンなどの希ガスを単独で使用するほか、用途に応じて専用の混合ガスとして使用する場合もあります。ガスの組成は、装置の安定性や性能、運転品質に影響するため、それぞれのシステムに適した仕様を選定することが重要です。
ご要望に応じた混合ガスは、お客様ごとの仕様や用途に合わせて組成を設計・調製するガス製品です。各ガスの混合比率を厳密に管理する必要がある用途や、高い精度が求められる用途、特殊な使用条件を伴う用途に適しています。
分析・研究、品質管理、機器試験、環境測定、先端技術分野をはじめ、特殊な製造工程など、幅広い分野で使用されています。
ガスに関するご相談
分析・研究、品質管理、機器試験、環境測定、先端技術分野をはじめ、特殊な製造工程など、幅広い分野で使用されています。
校正用ガスは、分析装置、ガス測定機器、センサー、環境モニタリングシステムなどの点検・調整や測定精度の確認に使用されます。研究・分析を行うラボをはじめ、環境、化学、食品、エレクトロニクス、工業生産、品質管理など幅広い分野で重要な役割を果たします。
測定対象や使用する機器に応じて、単一ガスまたは混合ガスを選定します。ガスの組成や濃度、精度は、それぞれの用途や要求仕様に合わせて設定されます。
ガスに関するご相談
測定対象や使用する機器に応じて、単一ガスまたは混合ガスを選定します。ガスの組成や濃度、精度は、それぞれの用途や要求仕様に合わせて設定されます。
産業ガス提供方法
液化ガス貯槽
- 容量：6,000～50,000 L
- 大量のガスを継続的かつ安定的に使用する用途に適しています。
シリンダーバンドル
- 構成：シリンダー8～16本
- 単体のシリンダーよりも多くのガスを必要とする用途に適しています。
- ガスの貯蔵量を増やし、シリンダー交換の頻度を減らすことができます。
チューブトレーラー／ISOタンク
- 大量のガスを必要とする用途に適しています。
- 専用車両によるガス供給に対応しています。
- ガスの種類、圧力、実際の使用条件に応じて供給方式を選定します。
メッサーの専門家が最適なソリューションをご提案
ガスの選定にあたっては、材料、加工方法、使用設備、求められる品質、実際の運転条件などを総合的に考慮する必要があります。メッサーは、お客様の用途やニーズに応じたガスの種類と供給方式をご提案し、安全で安定した生産プロセスの実現をサポートします。
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